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蔡司 Xradia 520 Versa 3D X 射线显微镜拓展了科学探索的灵活性。基于业界领先的高分辨率和高衬度技术,Xradia 520 Versa 扩展了无损成像的范围,使研究中至关重要的灵活性和洞察力有了重大突破。创新的衬度和采集技术让你自由地寻找和发现你从来没见过的,实现超越性的探索并取得新发现。
Xradia 520 Versa拥有 700nm 的空间分辨率和最小70nm 的体素。
除蔡司 Xradia Versa 系列 X 射线显微镜为众人所熟知的优势外 -- 最高分辨率、最佳衬度、RaaD(大工作距离下的高分辨率)技术及无损亚微米 X 射线成像 -- 蔡司 Xradia 520 Versa 还借助突破性的技术与创新全面提升实验室 X 射线成像性能:
双能扫描衬度观察系统(Dual Scan Contrast Visualizer,DSCoVer)
DSCoVer 拥有两种不同断层扫描模式的并排调节功能,可检测到在单次扫描中难以检测的样品信息,从而使研究人员能够快速便捷地收集双能量分析所需的数据。在两种不同的 X 射线光谱下或两种不同状态下对样品成像,将产生的数据集对齐组合,然后在确保获得感兴趣材料最佳衬度的同时实现研究参数可重复。
DSCoVer 利用 X 射线与样品内材料原子序数和密度的相互作用,从而提供独特的分辨能力,例如岩石内的矿物差异性,以及区分其它难于辨识的材料,如硅和铝的差异。
高纵横比断层扫描(High-Aspect Ratio Tomography,HART)
Xradia 520 Versa中创新的高纵横比断层扫描(HART)为导体封装样品和电路板等平坦样品提供更高通量成像。HART可进行可变投影间隔采集,沿扁平样品的前侧收集较少的投影数,而沿样品薄侧则收集更多的投影数。与排列稀疏的短视图相比,紧密排列的长视图能够提供更加丰富的 3D 数据。
您还可以调整 HART 以获得更高通量或更好的图像质量,从而有可能将图像采集速度提高2倍。
自动 X 射线滤光片转换器(Automated Filter Changer,AFC)
现在更加容易对挑战性的样品进行成像。用于调节 X 射线能谱的射线源滤光片是 DSCoVer 技术和原位应用的重要辅助装置。AFC 包含了 12 个标准系列滤光片,同样也可为新应用增加其它用户自定义滤光片。通过编程轻松实现滤光片切换并将其记录在成像方案中,在不中断工作的情况下完成滤光片切换。
宽视场模式
宽视场模式(WFM)在断层扫描过程中既可获得大样品成像时需要的扩展横向视场,也可为标准视场提供更高的分辨率。在对大样品成像时,利用标准视场近两倍的横向视场,可获得3倍以上的三维体积数据。而利用标准视场时,WFM 可获得近两倍的的体素。将 WFM 和垂直拼接技术结合,可获得比利用标准视场时更宽和更高的成像。
可选配的自动进样系统
蔡司Xradia Versa 系列的三维X射线显微镜可选配自动进样系统,在尽可能减少使用者相互影响的基础上最大化设备使用率。通过执行多个扫描任务,减少用户间的相互影响并提高效率。自动进样系统可同时安装多达14个样品,排队,并进行全天候连续运行或者停止。控制软件让您可灵活重新排列、取消任务和停止排队,并随时可放入优先成像样品。在搜索和扫描控制软件中包括了邮件提醒功能,让您及时了解到样品队列的状态。自动进样系统也为您提供了大量重复样品扫描的工作流程解决方案。
备选原位接口组件
X 射线显微镜特别适合在条件可控的变化环境下进行成像,包括随时间变化的无损四维表征及三维显微结构变化的定量分析。独特的设计结构使 Xradia Versa 成为业内领先的解决方案,支持多种原位辅助装置:高压流通池、拉伸和压缩测试装置及热台。备选的原位接口组件既稳定又坚固耐用,可支持大型复杂的原位装 置,并确保了 Xradia Versa卓越的性能。Xradia Versa提供用户接口可通过编程来实现简化操作。
无损三维 X 射线成像中前所未有的分辨率:
材料研究
表征材料、观察断裂力学、以多尺度检测特性、微观结构演化的定量分析与表征。执行原位和四维(随时间推移)成像,用以理解加热、冷却、氧化、加湿、拉伸、压缩、吸入、排出等模拟环境研究的影响。Xradia 520 Versa 能以非破坏性方式查看光学显微技术、SEM 和 AFM 等二维表面成像方法无法观察到的深层显微结构;复合衬度则用于研究低原子序数或"近原子序数"元素及其他难于辨识的材料。
自然资源
表征和定量分析孔隙结构、测量渗流、研究储碳过程、分析尾矿以最大化开采效率。Xradia 520 Versa 能提供最精准的三维亚微米成像,用于数字岩石物理模拟、原位多相渗流研究及三维矿物学。
生命科学
执行虚拟组织学成像、观察细胞和亚细胞结构特性、表征尺寸大小从毫米到厘米的样品内的亚微米结构。借助细胞和亚细胞结构的高分辨率、高衬度图像,深入探索发育生物学。Xradia 520 Versa 拥有实验室计算机断层成像解决方案的最高分辨率和最佳衬度,可用于染色和未染色的软硬组织及生物微观结构的研究。
电子学
优化流程、测定组件封装的可靠性、执行失效分析及分析组件封装结构。Xradia 520 Versa 能提供完好组件封装的无损亚微米图像,用于缺陷的重定位和表征并快速获得检测结果。Xradia Versa 是业界具有最高分辨率的无损三维亚微米成像解决方案,可用于补充或替代物理切片法。
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