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Xradia 520 Versa 3D X 射线显微镜
    发布时间: 2010-03-03 14:34    
蔡司 Xradia 520 Versa 3D X 射线显微镜拓展了科学探索的灵活性。基于业界领先的高分辨率和高衬度技术,Xradia 520 Versa 扩展了无损成像的范围,使研究中至关重要的灵活性和洞察力有了重大突破。创新的衬度和采集技术让你自由地寻找和发现你从来没见过的,实现超越性的探索并取得新发现。
Xradia 520 Versa 3D X 射线显微镜

开创探索新境界

蔡司 Xradia 520 Versa 3D X 射线显微镜拓展了科学探索的灵活性。基于业界领先的高分辨率和高衬度技术,Xradia 520 Versa 扩展了无损成像的范围,使研究中至关重要的灵活性和洞察力有了重大突破。创新的衬度和采集技术让你自由地寻找和发现你从来没见过的,实现超越性的探索并取得新发现。

Xradia 520 Versa拥有 700nm 的空间分辨率和最小70nm 的体素。

全面的亚微米X射线成像解决方案,提供前所未有的灵活性

除蔡司 Xradia Versa 系列 X 射线显微镜为众人所熟知的优势外 -- 最高分辨率、最佳衬度、RaaD(大工作距离下的高分辨率)技术及无损亚微米 X 射线成像 -- 蔡司 Xradia 520 Versa 还借助突破性的技术与创新全面提升实验室 X 射线成像性能:

双能扫描衬度观察系统(Dual Scan Contrast Visualizer,DSCoVer)
DSCoVer 拥有两种不同断层扫描模式的并排调节功能,可检测到在单次扫描中难以检测的样品信息,从而使研究人员能够快速便捷地收集双能量分析所需的数据。在两种不同的 X 射线光谱下或两种不同状态下对样品成像,将产生的数据集对齐组合,然后在确保获得感兴趣材料最佳衬度的同时实现研究参数可重复。

DSCoVer 利用 X  射线与样品内材料原子序数和密度的相互作用,从而提供独特的分辨能力,例如岩石内的矿物差异性,以及区分其它难于辨识的材料,如硅和铝的差异。

高纵横比断层扫描(High-Aspect Ratio Tomography,HART)
Xradia 520 Versa中创新的高纵横比断层扫描(HART)为导体封装样品和电路板等平坦样品提供更高通量成像。HART可进行可变投影间隔采集,沿扁平样品的前侧收集较少的投影数,而沿样品薄侧则收集更多的投影数。与排列稀疏的短视图相比,紧密排列的长视图能够提供更加丰富的 3D 数据。

您还可以调整 HART 以获得更高通量或更好的图像质量,从而有可能将图像采集速度提高2倍。

自动 X 射线滤光片转换器(Automated Filter Changer,AFC)
现在更加容易对挑战性的样品进行成像。用于调节 X 射线能谱的射线源滤光片是 DSCoVer 技术和原位应用的重要辅助装置。AFC 包含了 12 个标准系列滤光片,同样也可为新应用增加其它用户自定义滤光片。通过编程轻松实现滤光片切换并将其记录在成像方案中,在不中断工作的情况下完成滤光片切换。

宽视场模式
宽视场模式(WFM)在断层扫描过程中既可获得大样品成像时需要的扩展横向视场,也可为标准视场提供更高的分辨率。在对大样品成像时,利用标准视场近两倍的横向视场,可获得3倍以上的三维体积数据。而利用标准视场时,WFM 可获得近两倍的的体素。将 WFM 和垂直拼接技术结合,可获得比利用标准视场时更宽和更高的成像。

可选配的自动进样系统
蔡司Xradia Versa 系列的三维X射线显微镜可选配自动进样系统,在尽可能减少使用者相互影响的基础上最大化设备使用率。通过执行多个扫描任务,减少用户间的相互影响并提高效率。自动进样系统可同时安装多达14个样品,排队,并进行全天候连续运行或者停止。控制软件让您可灵活重新排列、取消任务和停止排队,并随时可放入优先成像样品。在搜索和扫描控制软件中包括了邮件提醒功能,让您及时了解到样品队列的状态。自动进样系统也为您提供了大量重复样品扫描的工作流程解决方案。

备选原位接口组件
X 射线显微镜特别适合在条件可控的变化环境下进行成像,包括随时间变化的无损四维表征及三维显微结构变化的定量分析。独特的设计结构使 Xradia Versa 成为业内领先的解决方案,支持多种原位辅助装置:高压流通池、拉伸和压缩测试装置及热台。备选的原位接口组件既稳定又坚固耐用,可支持大型复杂的原位装 置,并确保了 Xradia Versa卓越的性能。Xradia Versa提供用户接口可通过编程来实现简化操作。

独一无二的 Xradia 520 Versa 架构提供了无与伦比的灵活性:

无损三维 X 射线成像中前所未有的分辨率:

  • 低于 700 nm 的真实空间分辨率
  • 低于 70nm 的最小体素
  • 双级放大倍率提供的“大工作距离下的高分辨率(RaaD)”技术,保证了在亚微米的分辨率下更大更灵活的工作距离
  • 利用搜索和放大功能进行独特的无损内部断层扫描
 
用于挑战性样品成像的高级反差功能:
  • 优化的增强型吸收衬度探测器能够最大程度地收集形成衬度的低能量 X 射线光子
  • 可调传播相位衬度技术能对低原子序数材料和具有低吸收衬度的生物样品进行成像
  • 使用双能量探测功能最大化单个扫描难以区分的差别
领先的原位和四维解决方案
  • 无损 X 射线显微镜可对原位实验的微观结构和随时间演化(4D)的特征进行独特的表征
  • 支持多种在环境试验箱内不同变化条件下高达几英寸的样品的亚微米成像的原位实验
  • 大工作距离下的高分辨率(RaaD)使 Xradia Versa 能够在X射线源与样品空间增长下保持高分辨率,然而传统的 micro-CT 在样品放置在宽敞的原位腔中分辨率会下降
 
宽视场模式(WFM)可在相同分辨率下获得 2 倍于标准模式的视场,并获得较之前 3 倍的三维图像数据
 
高效工作流程中的超级简化控制系统,非常适合中心实验室类型的环境,适合不同经验水平的用户
 
系统的稳定性好:振动隔离,热稳定,低噪声探测器
 
强大的双 GPU 工作站缩短了图像重构时间,效率提高了40%
 
可选配的 Versa 原位辅助装置支持环境样品舱内(如线缆和管线)的配套设施,达到最高的成像性能和轻松设置
 
可选配的自动进样系统可编程和同时运行多达14个样品,提高了生产效率,全自动工作流程可用于大体积扫描

材料研究
表征材料、观察断裂力学、以多尺度检测特性、微观结构演化的定量分析与表征。执行原位和四维(随时间推移)成像,用以理解加热、冷却、氧化、加湿、拉伸、压缩、吸入、排出等模拟环境研究的影响。Xradia 520 Versa 能以非破坏性方式查看光学显微技术、SEM 和 AFM 等二维表面成像方法无法观察到的深层显微结构;复合衬度则用于研究低原子序数或"近原子序数"元素及其他难于辨识的材料。

自然资源
表征和定量分析孔隙结构、测量渗流、研究储碳过程、分析尾矿以最大化开采效率。Xradia 520 Versa 能提供最精准的三维亚微米成像,用于数字岩石物理模拟、原位多相渗流研究及三维矿物学。

生命科学
执行虚拟组织学成像、观察细胞和亚细胞结构特性、表征尺寸大小从毫米到厘米的样品内的亚微米结构。借助细胞和亚细胞结构的高分辨率、高衬度图像,深入探索发育生物学。Xradia 520 Versa 拥有实验室计算机断层成像解决方案的最高分辨率和最佳衬度,可用于染色和未染色的软硬组织及生物微观结构的研究。

电子学
优化流程、测定组件封装的可靠性、执行失效分析及分析组件封装结构。Xradia 520 Versa 能提供完好组件封装的无损亚微米图像,用于缺陷的重定位和表征并快速获得检测结果。Xradia Versa 是业界具有最高分辨率的无损三维亚微米成像解决方案,可用于补充或替代物理切片法。



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