SIGMA 系列场发射扫描式电子显微镜
发布时间: 2010-03-04 15:28
SIGMA 系列场发射扫描电镜（FE-SEM）拥有先进的显微分析技术。该系列电镜采用配有in-lens二次电子探测器的GEMINI 镜筒，能够提供出色的分辨率、衬度和亮度，适用于样品形貌的清晰成像。高真空和可变压力模式能够对导电与非导电样品进行高清晰成像。
SIGMA 系列场发射扫描电镜（FE-SEM）拥有先进的显微分析技术。该系列电镜采用配有in-lens二次电子探测器的GEMINI 镜筒，能够提供出色的分辨率、衬度和亮度，适用于样品形貌的清晰成像。高真空和可变压力模式能够对导电与非导电样品进行高清晰成像。
分析性能 GEMINI 镜筒的设计可提供超低电压成像和稳定性。SIGMA 能识别小至 1.5 nm 的微细结构。而 SIGMA HD 则可进一步提高分辨率至 1.0 nm。
集成化工作流程 SmartSEM 软件具有图像导航功能，借助数字概览图像完成样品在样品仓内的导航、定向和定位。使用 SmartBrowse 查看图像及其相关分析数据。
最高效率 通过在 SIGMA HD 分析样品室上安装双 EDS 探测器来提高效率。快速、精准的 X 射线能谱仪。
SIGMA HD（场发射扫描电镜）不仅具有高真空和可变压力模式，还可对电子器件、探测器及机械部件进行升级，可达到 1nm 的成像分辨率。
高清晰成像
SIGMA HD 实现了分析型场发射扫描电镜的高清晰成像。新型的低电压优化背散射探测器 HD BSD，能够在低加速电压（750V 至 3kV）和低探针电流下对样品成像。新型 HD BSD 还可在 30kV 电压下成像，堪称业界一流。
高分辨率下快速元素分析
SIGMA HD 将大幅图像帧存储与高速电子束扫描相结合，可实现在高分辨率大视野下（12K x 9K）的快速元素（50ns/像素）定量分析。样品室还能够同时连接两个相对的 EDS 探测器，均可实现最大固定角度探测。针对电子束敏感样品，双 EDS 设置能在使用高 X 射线计数率的情况下同时保持低探针电流。
3View 技术使蔡司场发射扫描电镜成为一套快速高分辨率三维成像系统
SIGMA 结合了 Gatan 公司的 3View 技术，从包埋的细胞和组织样品中获取高分辨率三维信息。在最短时间内完成操作。 3View 是扫描电镜样品室内的一台超微切片机。它能够连续对样品进行切割与成像。您可以在一天生成数以千计的序列图像 – 由于它们均源自一个固定模块，所以彼此之间精准对齐。
蔡司全套解决方案
使用配有可变压力的 SIGMA 3View 实现最佳程度的电荷中和。在无任何用户干预下，系统可长时间稳定地运行。
大视野
蔡司 GEMINI 技术能以纳米级的分辨率在一次扫描过程中获取像素大小为 32k x 24k 的图像。您甚至还可以进行大视野成像，图像边缘绝不失真。而且您在大多数应用中无需拼接图像。
最高扫描速度
根据应用不同，您还能够使用 3View 技术以 10 倍快的速度获取三维图像。利用 SIGMA 独一无二的高束流模式快速成像。
采集图像分辨率高达 32 k x 32 k 像素，驻留时间从 100 ns 到 100 s 以上（以 100 ns 递增可调）。同时可以 8 位或 16 位保存图像。使用 ATLAS 拼接工具可建立大幅图像拼接。
